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Maison Périphériques technologiques Industrie informatique Samsung a annoncé l'achèvement de la vérification de la technologie du processus d'empilement de liaisons hybrides à 16 couches, qui devrait être largement utilisée dans la mémoire HBM4.

Samsung a annoncé l'achèvement de la vérification de la technologie du processus d'empilement de liaisons hybrides à 16 couches, qui devrait être largement utilisée dans la mémoire HBM4.

Apr 07, 2024 pm 09:19 PM
Mémoire Samsung Electronics hbm liaison hybride

Selon certaines informations, Dae Woo Kim, directeur de Samsung Electronics, a déclaré que lors de la réunion annuelle 2024 de la Korean Microelectronics and Packaging Society, Samsung Electronics terminerait la vérification de la technologie de mémoire HBM à liaison hybride à 16 couches. Il est rapporté que cette technologie a passé avec succès la vérification technique. Le rapport indique également que cette vérification technique jettera les bases du développement du marché de la mémoire dans les prochaines années.

Dae Woo Kim a déclaré que Samsung Electronics a fabriqué avec succès une mémoire HBM3 empilée à 16 couches basée sur la technologie de liaison hybride L'échantillon de mémoire fonctionne normalement et la technologie de liaison hybride empilée à 16 couches sera utilisée pour la production en série de la mémoire HBM4. à l'avenir.

三星宣布完成 16 層混合鍵合堆疊工藝技術驗證,有望在 HBM4 內存大面積應用
▲ Source de l'image The Elec, la même chose ci-dessous

Par rapport au processus de liaison existant, la liaison hybride n'a pas besoin d'ajouter de bosses entre les couches de mémoire DRAM, mais connecte directement les couches supérieure et inférieure de cuivre au cuivre. Peut améliorer considérablement le taux de transmission du signal et est plus adapté aux exigences de bande passante élevée de l'informatique IA.

La liaison hybride peut également réduire l'espacement des couches DRAM, réduisant ainsi la hauteur totale du module HMB, mais elle est également confrontée au problème d'une maturité insuffisante et de co?ts d'application co?teux.

Samsung Electronics adopte une stratégie à deux volets en termes de technologie de liaison de mémoire HBM4, développant simultanément la liaison hybride et les processus TC-NCF traditionnels.

Sur la base de l'image ci-dessous et des rapports précédents sur ce site, la limite de hauteur du module HBM4 sera assouplie à 775 microns, ce qui est propice à l'utilisation continue du TC-NCF.

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Samsung travaille dur pour réduire l'écart entre les plaquettes du processus TC-NCF, dans le but de réduire cette hauteur à moins de 7,0 microns dans HBM4.

Cette technologie fait également face à des doutes. Dae Woo Kim a riposté en affirmant que la solution de Samsung Electronics est plus adaptée aux modules à pile élevée de 12 à 16 couches que le MR-RUF du concurrent SK Hynix.

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Pour les disques durs mécaniques ou les disques SSD SATA, vous ressentirez l'augmentation de la vitesse d'exécution du logiciel. S'il s'agit d'un disque dur NVME, vous ne la ressentirez peut-être pas. 1. Importez le registre sur le bureau et créez un nouveau document texte, copiez et collez le contenu suivant, enregistrez-le sous 1.reg, puis cliquez avec le bouton droit pour fusionner et redémarrer l'ordinateur. WindowsRegistryEditorVersion5.00[HKEY_LOCAL_MACHINE\SYSTEM\CurrentControlSet\Control\SessionManager\MemoryManagement]"DisablePagingExecutive"=d

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Selon des informations publiées sur ce site Web le 3 septembre, le média coréen etnews a rapporté hier (heure locale) que les produits de mémoire mobile à structure empilée ? de type HBM ? de Samsung Electronics et SK Hynix seraient commercialisés après 2026. Des sources ont indiqué que les deux géants coréens de la mémoire considèrent la mémoire mobile empilée comme une source importante de revenus futurs et prévoient d'étendre la ? mémoire de type HBM ? aux smartphones, tablettes et ordinateurs portables afin de fournir de la puissance à l'IA finale. Selon des rapports précédents sur ce site, le produit de Samsung Electronics s'appelle LPWide I/O memory, et SK Hynix appelle cette technologie VFO. Les deux sociétés ont utilisé à peu près la même voie technique, à savoir combiner emballage en sortance et canaux verticaux. La mémoire LPWide I/O de Samsung Electronics a une largeur de 512 bits.

Samsung a annoncé l'achèvement de la vérification de la technologie du processus d'empilement de liaisons hybrides à 16 couches, qui devrait être largement utilisée dans la mémoire HBM4. Samsung a annoncé l'achèvement de la vérification de la technologie du processus d'empilement de liaisons hybrides à 16 couches, qui devrait être largement utilisée dans la mémoire HBM4. Apr 07, 2024 pm 09:19 PM

Selon le rapport, Dae Woo Kim, directeur de Samsung Electronics, a déclaré que lors de la réunion annuelle 2024 de la Korean Microelectronics and Packaging Society, Samsung Electronics terminerait la vérification de la technologie de mémoire HBM à liaison hybride à 16 couches. Il est rapporté que cette technologie a passé avec succès la vérification technique. Le rapport indique également que cette vérification technique jettera les bases du développement du marché de la mémoire dans les prochaines années. DaeWooKim a déclaré que Samsung Electronics avait réussi à fabriquer une mémoire HBM3 empilée à 16 couches basée sur la technologie de liaison hybride. à l'avenir, la technologie de liaison hybride empilée à 16 couches sera utilisée pour la production en série de mémoire HBM4. ▲ Source de l'image TheElec, comme ci-dessous. Par rapport au processus de liaison existant, la liaison hybride n'a pas besoin d'ajouter de bosses entre les couches de mémoire DRAM, mais connecte directement les couches supérieure et inférieure de cuivre au cuivre.

Mar 22, 2024 pm 08:16 PM

Ce site rapportait le 21 mars que Micron avait tenu une conférence téléphonique après la publication de son rapport financier trimestriel. Lors de la conférence, le PDG de Micron, Sanjay Mehrotra, a déclaré que par rapport à la mémoire traditionnelle, la HBM consomme beaucoup plus de plaquettes. Micron a déclaré qu'en produisant la même capacité sur le même n?ud, la mémoire HBM3E la plus avancée actuelle consomme trois fois plus de tranches que la DDR5 standard, et on s'attend à ce qu'à mesure que les performances s'améliorent et que la complexité de l'emballage s'intensifie, à l'avenir HBM4, ce ratio augmentera encore. . Si l’on se réfère aux rapports précédents sur ce site, ce ratio élevé est en partie d? au faible taux de rendement de HBM. La mémoire HBM est empilée avec des connexions TSV de mémoire DRAM multicouche. Un problème avec une couche signifie que l'ensemble.

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Selon les informations de ce site Web le 6 mai, Lexar a lancé la mémoire d'overclocking DDR57600CL36 de la série Ares Wings of War. L'ensemble de 16 Go x 2 sera disponible en prévente à 00h00 le 7 mai avec un dép?t de 50 yuans, et le prix est de 50 yuans. 1?299 yuans. La mémoire Lexar Wings of War utilise des puces mémoire Hynix A-die, prend en charge Intel XMP3.0 et fournit les deux préréglages d'overclocking suivants?: 7600MT/s : CL36-46-46-961.4V8000MT/s : CL38-48-49 -1001.45V En termes de dissipation thermique, cet ensemble de mémoire est équipé d'un gilet de dissipation thermique tout en aluminium de 1,8 mm d'épaisseur et est équipé du tampon de graisse en silicone thermoconducteur exclusif de PMIC. La mémoire utilise 8 perles LED haute luminosité et prend en charge 13 modes d'éclairage RVB.

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Ce site a rapporté le 13 juin que Samsung Electronics avait réitéré lors du Samsung Foundry Forum 2024 North America qui s'est tenu le 12 juin, heure locale, que son procédé SF1.4 devrait être produit en série en 2027, contredisant les rumeurs médiatiques précédentes. Samsung a déclaré que les préparatifs du processus 1,4 nm progressaient sans problème et qu'il devrait atteindre des étapes de production de masse en termes de performances et de rendement en 2027. En outre, Samsung Electronics recherche activement la technologie avancée des processus logiques dans l'ère post-1,4 nm grace à des innovations dans les matériaux et les structures afin de concrétiser l'engagement de Samsung de dépasser continuellement la loi de Moore. Samsung Electronics a simultanément confirmé qu'il prévoyait toujours de produire en masse le procédé SF3 de deuxième génération en 3 nm au cours du second semestre 2024. Dans le segment plus traditionnel des transistors FinFET, Samsung Electronics prévoit de lancer S

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